首页/文章/ 详情

微电子工业电镀槽内部流动及传质模拟

1年前浏览3117



图2 带剪切板电镀槽内部流场结构(涡量模的等值面表征)时间演化动画(Tri_6a1g)

明显剪切板运动产生的涡旋脱落增强了电镀槽内部流场扰动,强化质量传递且剪切板尺寸越大扰动区域越大,如图3所示。
 

 
图3 不同大小和间距的带剪切板电镀槽内部瞬时流场结构(涡量模等值面表征)(a)Tri_2a1g,(b)Tri_6a1g,(c)Tri_5a2g,(d)Tri_10a4g

在电镀工艺中,我们更关心的是阴极附近边界层,因此分析了不同大小和间距带剪切板电镀槽阴极表面质量边界层厚度分布,如图4所示。

 

 

图4 不同大小和间距的带剪切板电镀槽阴极表面质量边界层厚度:(a)Tri_2a1g,(b)Tri_6a1g,(c)Tri_5a2g,(d)Tri_10a4g

由图可知,在较小间距g=1mm时,质量边界层厚度最小,大约在100μm左右,且剪切板大小的影响不明显。进一步,间距增加到g=2mm时,质量边界层厚度增加到300μm左右,且随着间距继续增大,变化不大。这说明剪切板与阴极表面间距是重要影响参数,而剪切板尺寸影响较小。这将为带剪切板的电镀槽设计提供参考。




                       

                       

参考文献

1. Pandey, R. K.,Sahu, S. N.,Chandra, S.:'Handbook of Semiconductor Electrochemistry'. CRC: New York, 1996.

2. Kawamoto, H.: 'Numerical calculation ofsecondary current distribution in a two-dimensional electrochemical cell with aresistive electrode '. J Appl Electrochem, 1992, 22, 1113-1116.

3. Averill, A. F.,Mahmood, H. S.:'Determination of tertiary current distribution in electrodeposition cells -part 1 computational techniques'. T I Met Finish, 1997, 75, 228-233.

4. Tong, L. Z.,Ohara, K.,Asa, F.,Sugiura, Y.:'CFD analysis of eductor agitation in electroplating tank'. T I Met Finish,2010, 88, 185-190.

5. Wilson, G. J.,McHugh, P. R.: 'Unsteadynumerical simulation of the mass transfer within a reciprocating paddleelectroplating cell'. J Electrochem Soc, 2005, 152, C356-C365.

6. Jianzhi Yang, Ang Li, Xiaowei Zhu, XianghuaLiu, Zhihe Shen :’Numerical study on the hydrodynamic performance of a novel electroplatingcell with jet array and cross flow’. T I MetFinish,2020,DOI:10.1080/00202967.2020.1696603.

来源:多相流在线
OpenFOAM碰撞多相流化学动网格湍流核能电力电子理论材料
著作权归作者所有,欢迎分享,未经许可,不得转载
首次发布时间:2023-06-23
最近编辑:1年前
积鼎科技
联系我们13162025768
获赞 108粉丝 104文章 295课程 0
点赞
收藏
未登录
还没有评论
课程
培训
服务
行家
VIP会员 学习 福利任务 兑换礼品
下载APP
联系我们
帮助与反馈