ZEMAX OpticStudio 19.4 新版本发布
★
OpticStudio发布19.4版本
在OS 19.4版本中，ZPL编程界面新增了关键词搜索功能，ZOS-API中现已支持提取颜色探测器、材料库以及几何图像分析等分析数据，进一步扩展了OpticStudio编程的灵活性。在OS序列模式中新增加了CodeVTM文件导入工具，全面支持Binary 2和Zernike Fringe等面型的数据导入。此外在新版本中进一步扩展了格点矢高优化 (Grid Optimization) 工具的实用性。更多OS 19.4版本的信息，请查阅节末链接中的更新说明。
https://cdn.zemax.net.cn/cmsstorage/zemax_2017/media/zmxdocuments/productdocs/opticstudio/releasenotes/opticstudio19-4releasenotes_cn.pdf
LensMechanix发布19.4版本
在LMx 19.4版本中，增添了可支持的光学元件类型，如环形阵列、体探测器、面探测器和布尔物体；新增加了在LMx中进行非序列光线追迹参数设置的选项，并且现已支持对光学元件的散射属性以及材料内的体散射特性进行定义；探测器查看器数据现在支持不同的显示类型，增加了数据分析的灵活性。更多LMx 19.4版本的信息，请查看节末链接中的更新说明。
LMx SW:
https://cdn.zemax.net.cn/cmsstorage/zemax_2017/media/zmxdocuments/productdocs/lensmechanix/releasenotes/lensmechanix-19-4-solidworks-release-notes_simpchinese_hh.pdf
LMx Creo:
https://cdn.zemax.net.cn/cmsstorage/zemax_2017/media/zmxdocuments/productdocs/lensmechanix/releasenotes/lensmechanix-19-4-creo-release-notes_simpchinese_hh.pdf
中文帮助手册现已发布
在OS 19.4版本中，我们首次发布了中文版本的帮助手册。在帮助手册中，您可以查阅OpticStudio中所有分析工具的使用规则、注意事项以及应用示例等。中文帮助手册的发布可以更好的服务广大中文工程师及科研人员。
