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从能带图来理解MOS电容(四)

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碎碎念

手写板的mini-USB接口坏了,一侧少了一块塑料,接触不良。
昨天把螺丝给卸了,把板子给拆开了,等着淘 宝买的配件到货,换一个。原来以为里面的电路会很复杂,没想到就几个芯片,唉。
话又说回来,没有手写板,我都不知道怎么写今天的这篇文章了,因为没有办法画图。
   

   

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从能带图来理解MOS电容

从能带图来理解MOS电容(二)

从能带图来理解MOS电容(三)

  • 当VG<0V但是又不是很小的时候

    当VG<0时,金属的费米能级Ef,m往上移动,而Xm'不变,所以代表oxide的矩形的左边框开始往上移动,此时右边框保持固定(或者会稍稍下移??因为[2]中讲,当Ef,m往下移动的时候,会带着半导体与氧化物接触面处的能级也往下移,从而出现bending,暂时也先忽略这一点),如下图所示。此时,在oxide-semiconductor处,应该往哪倾斜,还未标注。

在[2]的3.1节中,Mark教授,介绍了通过电势来判定oxide-semiconductor接触面处能级的倾斜方向。

倾斜代表什么呢?

先直观上来推测一下,VG<0,则金属与oxide的接触面处产生负电荷,因为是n-type semiconductor,所以里面的多子是电子,所以电子会被金属侧的负电荷排斥,从而留下不能移动的正离子,也就是说,在n-type semiconductor和oxide接触面处开始形成耗尽层。

而半导体中的载流子浓度的公式为:

图片

接触面处Ef与Ei之间的间距接近于0,自由移动的电子和空穴都近似等于ni, 浓度小,且电子和空穴的电荷基本抵消。与上述直观推测相符合。

该工作区域,被称为depletion region。也就是说,当半导体是n-type,VG<0但又不是很小的时候,为depletion region;类似,当半导体是p-type,VG>0时,但又不是很大的时候,为depletion region。

  • 当VG变得更负时,也就是说比0更小时

金属的费米能级进一步向上移动,同时接触面更加弯曲。

而半导体中的载流子浓度的公式为:

图片
所以在n-type semiconductor和oxide的接触面处,空穴的浓度要大于电子的浓度,开始呈现出p-type semiconductor的特性,也就是说,在接触面附近,半导体的类型发生了反转,称为inversion。
这个时候空穴的产生,可能就没有那么直观了,这也是我当初看着razavi的模集时又来看半导体物理的原因。
如文献[1]所述,
也就是说,对于MOS电容,这些空穴主要来源于半导体中的热激发。
参考文献:

[1] Ali Hajimiri, Analog 



来源:加油射频工程师
电路半导体电子芯片
著作权归作者所有,欢迎分享,未经许可,不得转载
首次发布时间:2025-04-24
最近编辑:3小时前
加油射频工程师
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