碎碎念
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当VG<0V但是又不是很小的时候
当VG<0时,金属的费米能级Ef,m往上移动,而Xm'不变,所以代表oxide的矩形的左边框开始往上移动,此时右边框保持固定(或者会稍稍下移??因为[2]中讲,当Ef,m往下移动的时候,会带着半导体与氧化物接触面处的能级也往下移,从而出现bending,暂时也先忽略这一点),如下图所示。此时,在oxide-semiconductor处,应该往哪倾斜,还未标注。
在[2]的3.1节中,Mark教授,介绍了通过电势来判定oxide-semiconductor接触面处能级的倾斜方向。
倾斜代表什么呢?
先直观上来推测一下,VG<0,则金属与oxide的接触面处产生负电荷,因为是n-type semiconductor,所以里面的多子是电子,所以电子会被金属侧的负电荷排斥,从而留下不能移动的正离子,也就是说,在n-type semiconductor和oxide接触面处开始形成耗尽层。
而半导体中的载流子浓度的公式为:
接触面处Ef与Ei之间的间距接近于0,自由移动的电子和空穴都近似等于ni, 浓度小,且电子和空穴的电荷基本抵消。与上述直观推测相符合。
该工作区域,被称为depletion region。也就是说,当半导体是n-type,VG<0但又不是很小的时候,为depletion region;类似,当半导体是p-type,VG>0时,但又不是很大的时候,为depletion region。
当VG变得更负时,也就是说比0更小时
金属的费米能级进一步向上移动,同时接触面更加弯曲。
而半导体中的载流子浓度的公式为:
[1] Ali Hajimiri, Analog