RationalDMIS7.1名义平面上的投影（偏移实际元素到理论高度）_理论

RationalDMIS7.1名义平面上的投影（偏移实际元素到理论高度）

平面上的位置圆柱孔洞深度较低，一般不平行于坐标轴。为此，圆的测量需要补偿。由于坐标轴不平行，测量点计算出的中心点坐标不能代表平面上的位置。测量投影面耗时较多。“投影到名义面”功能能够轻松确定这些孔的位置。

名义平面上的投影（偏移实际元素到理论高度）：

CONST/CIRCLE,F(CIR1),PROJCT,FA(CIR1),F(CIR1)

释义：

（1）允许圆元素被当作投影面。平面由该圆所在平面定义得来；

（2）CONST/CIRCLE，F（CIRLABEL），PROJCT，FA（CIRLABEL），F（CIRLABEL）

当投影圆和投影参考平面的圆为同一个圆时，所测量的圆将投影到理论圆所在的高度上。

名义面投影，测量点投在圆的名义面上。名义正常圆作为投影平面。

你可以确定任意方向平面孔位置。例如，在圆测量中不能直接探测起始高度的情况下，你可以使用此项功能。由于非平行平面坐标系，计算坐标不代表平面上位置。然而，“名义值投影”功能为您提供了便捷评估位置坐标的方法。

下面这张放大的图片展示了将测量点投影到圆的名义位置上的方法：

（1）CAD线型图形定义——边界线——拾取圆

（2）设置适当的测量参数

根据实际情况，设置合适的接近/回退距离以及测量深度。其中深度决定了测点分布的高度、间距面保证探针先走到一个安全的位置后再去测量、搜索距离保证孔直径误差较大时仍能正常测量。

下面的参数要根据具体情况而定，设置完成后点击“应用”生效。

（3）圆实际材料偏移设置——向量创建测量产生 DMIS 程序的设置（可选）

（4）测量圆

RE说明：

1.圆实际材料偏移不设置

2.测量圆

3.构造操作区——投影

来源：山涧果子

RationalDMIS 7.1使用关键字解决构造歧义

“使用关键字解决构造歧义”路径：这个选项是控制一些构造时创建另外的关键字；此设置是解决在一些应用时，使用理论来选择构造结果不总是很正确，特别是在几何尺寸很小的影像应用上；默认设置是“不”，需要设置为“是”。如下应用可以使用此功能解决：解决 DMIS 构造切圆的时，使用理论半径构造出多个实际结果的不足；使用理论可以构造出唯一圆，但是测量的实际圆位置和理论有误差时，不能构造出结果；使用 DMIS 关键字来解决这一的问题；CONST/CIRCLE, F(KR_TAN1), TANTO, FA(KR1) ,THRU, FA(KR2), CIPTMINCONST/CIRCLE, F(KR_TAN2), TANTO, FA(KR1) ,THRU, FA(KR2), CIPTMAXCONST/CIRCLE, F(KR_TAN3), TANTO, FA(KR1), FA(KR2), CICIMINCONST/CIRCLE, F(KR_TAN4), TANTO, FA(KR1), FA(KR2), CICIMAX对于“中分”构造，RationalDMIS 7.1软件程序设置如下：（1）程序设置—DMIS设置—兼容性—使用关键字解决构造歧义（2）程序设置—元素设置—构造元素——中线构造设置构造元素‘中线构造使用元素简化’增加到程序设置中，当使用线段构造中线，选项可以设置是否使用线中点来构造结果；实际直线方向总与理论直线方向一致：中分构造的实际直线和理论直线一直是有精确的角度关系的。如果中分构造的实际直线和理论直线的夹角大于90度，实际直线的方向会反转。此选项忽略此规则。RationalDMIS四面分中（模具/铜公/电极）RationalDMIS7.0工件测量之特征阵列+镜像使用方法（模具+电极/铜公）RationalDMIS 铜公测量之菜单式 HLL示例一：运行程序导致中分元素跑掉适用：模具，铜公以及需要分中测量的工件！在中分构造界面构造出想要的中分线后，运行刚才生成的 DMIS 程序会导致中分元素“跑掉”。这时在程序设置-DMIS 设置中将“使用关键字解决构造歧义”设置成“是”并重新生成程序；要重新生成中分程序，因为打开和关闭生成的程序有区别；打开和关闭区别如下：（1）打开程序设置—DMIS设置—兼容性—使用关键字解决构造歧义——是（2）关闭程序设置—DMIS设置—兼容性—使用关键字解决构造歧义——不RE程序示例如下：示例二：两圆构造中分点示例三：两圆构造相切圆来源：山涧果子