多晶硅研发实验室（百级）CFD气流组织模拟与优化设计

问题点：

1、右图A处，下方洁净室内产生涡流，高度在H=2.4m到顶部，形成污染物滞留区

                   该区域气流良好

deltaP为洁净室内压力与高架地板下方压力的差值。即通常所说的相对正压值。

问题点：

1、粉色 区域到黄色 区域，正压到了35pa左右，远远超过了压力需求。

2、空间平面方向的压力偏差超过20pa，气流存在滞留现象，不利于高架地板下部气流顺畅流动。

结 论：

1、根据模拟结果显示：正压值基本满足百级洁净室性能要求，因送风量充足，总体不会影响气流通畅。但因空调功率过大，送风量过剩，能耗过载，不节能！

2、可通过调整高架地板开孔率并结合回风口的设置改善。

中源广科，由南京大学数学博士张麟创办于苏州相城，坐落于苏州高铁新城，是一家专业打造国产自主CFD软件工具并提供气流组织模拟及微污染控制解决方案的高新技术企业。公司聚焦半导体行业，依托全球顶尖的CFD空气计算技术和经验，为客户提供气流组织整体解决方案，服务范围涵盖无尘车间、半导体生产线全过程颗粒物环境保障方案；帮助客户打造高洁净度的生产环境，优化气流组织结构，提升产品良率，降低系统能耗，以实现最高的生产效率。

中源广科，致力于成为中国半导体行业微污染控制的领军企业，实现中国CFD空气计算软件国产替代，并将中国半导体行业的微污染控制提升到国际先进水平而不懈努力。