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【Lumerical系列】硅基光电调制器（1）——基本原理
本期我们将开始一个新的系列专题——有源光子器件的设计与仿真，涉及到调制器、探测器、激光器在内的众多有源器件。我们将以AnsysLumerical上...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1290
【Lumerical系列】无源器件专题——复用器件（1）
本期是Lumerical系列中无源器件专题——复用器件的设计与仿真，主要涉及到波分复用器件、模分复用器件以及基于二者的混合复用器件。我们将会从...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1249
【Lumerical系列】硅基光电调制器（2）——常见的三种调制结构
上一期我们介绍了光学调制的基本概念并总结了电光调制中常用的物理效应，对于硅材料而言，主要的电光效应包括克尔效应、弗朗兹-－凯尔迪什（F...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
754
【Lumerical系列】无源器件-复用器件（2）
本期是Lumerical系列中无源器件专题-复用器件的第二期，主要内容为波分复用器的设计与仿真，并以典型的级联微环（MRR）型波分复用器为例进行仿...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1385
【Lumerical系列】硅基电光调制器（3.1）——常用的光学结构
前面两期我们分别介绍了电光调制中常用的物理效应和常见的几种调制结构，其中包括了载流子注入型、载流子耗尽型以及载流子积累型在内的三中常...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
942
【Lumerical系列】硅基光电调制器（2）——常见的三种调制结构
上一期我们介绍了光学调制的基本概念并总结了电光调制中常用的物理效应，对于硅材料而言，主要的电光效应包括克尔效应、弗朗兹-－凯尔迪什（F...
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基于Lumerical软件计算多层薄膜反射率
1.导入材料属性将Ti3O5、SiO2、Al2O3材料折射率表导入FDTD的材料库。▲图1材料属性导入2.添加结构通过Structures添加结构，选择Rectangle，添...
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Ansys Speos | 挡风玻璃光学畸变分析
附件下载联系工作人员获取附件此示例介绍了基于TL957标准和43号法规（ECER43）的挡风玻璃光学畸变分析的工作流程，以及GitHubAnsys光学自动化...
武汉宇熠
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Ansys Zemax｜如何有效地模拟散射
附件下载联系工作人员获取附件概要OpticStudio中，有两个用来提升散射模拟效率的工具：ScatterToList以及ImportanceSampling。在这篇文章中，...
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