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FDTD和MODE中的PML边界
PML是一种吸收边界条件,旨在以尽可能小的反射率实现入射光的吸收。具体而言,这种边界通常用在仿真区边缘,能与周围材料阻抗匹配,最大限度地...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1136
Lumerical | Q&A集合——第一期
Q&AAre‘FlexibleMaterialPlugins’supportedonLinux?(在Linux是否支持“灵活材料插件”)问材料插件的文档使用Windows作为操作系统。是...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1475
Lumerical | Q&A集合——第二期
Q&AHowtousescripttoimportnewmaterials?(如何使用脚本导入新材料)问新材料(包括实部和虚部)的折射率随波长的变化而变化。如何使用脚本...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
293
Lumerical | Q&A集合——第三期
Q&AEffectivemassesinInterconnectTWLM(在InterconnectTWLM中有效质量)问我想知道如何可能改变一个参数在一个给定的时间域模拟。例如,...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
590
【Lumerical系列】硅基光电调制器(1)——基本原理
本期我们将开始一个新的系列专题——有源光子器件的设计与仿真,涉及到调制器、探测器、激光器在内的众多有源器件。我们将以AnsysLumerical上...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1542
【Lumerical系列】无源器件专题——复用器件(1)
本期是Lumerical系列中无源器件专题——复用器件的设计与仿真,主要涉及到波分复用器件、模分复用器件以及基于二者的混合复用器件。我们将会从...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1478
【Lumerical系列】硅基光电调制器(2)——常见的三种调制结构
上一期我们介绍了光学调制的基本概念并总结了电光调制中常用的物理效应,对于硅材料而言,主要的电光效应包括克尔效应、弗朗兹--凯尔迪什(F...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
956
【Lumerical系列】无源器件-复用器件(2)
本期是Lumerical系列中无源器件专题-复用器件的第二期,主要内容为波分复用器的设计与仿真,并以典型的级联微环(MRR)型波分复用器为例进行仿...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1648
【Lumerical系列】硅基电光调制器(3.1)——常用的光学结构
前面两期我们分别介绍了电光调制中常用的物理效应和常见的几种调制结构,其中包括了载流子注入型、载流子耗尽型以及载流子积累型在内的三中常...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1271
【Lumerical系列】硅基光电调制器(2)——常见的三种调制结构
上一期我们介绍了光学调制的基本概念并总结了电光调制中常用的物理效应,对于硅材料而言,主要的电光效应包括克尔效应、弗朗兹--凯尔迪什(F...
摩尔芯创
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