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【案例】基于Lumerical Charge的金属氧化物半导体(MOS)电容器的仿真
本例描述了金属氧化物半导体(MOS)电容器的仿真。在第一部分中,我们将进行稳态仿真以计算MOSCap的静态电容。在第二部分中,我们将进行小信号...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1542
FDTD和MODE中的PML边界
PML是一种吸收边界条件,旨在以尽可能小的反射率实现入射光的吸收。具体而言,这种边界通常用在仿真区边缘,能与周围材料阻抗匹配,最大限度地...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1533
【Lumerical系列】硅基光电调制器(1)——基本原理
本期我们将开始一个新的系列专题——有源光子器件的设计与仿真,涉及到调制器、探测器、激光器在内的众多有源器件。我们将以AnsysLumerical上...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1815
【Lumerical系列】无源器件专题——复用器件(1)
本期是Lumerical系列中无源器件专题——复用器件的设计与仿真,主要涉及到波分复用器件、模分复用器件以及基于二者的混合复用器件。我们将会从...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1929
【Lumerical系列】硅基光电调制器(2)——常见的三种调制结构
上一期我们介绍了光学调制的基本概念并总结了电光调制中常用的物理效应,对于硅材料而言,主要的电光效应包括克尔效应、弗朗兹--凯尔迪什(F...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1169
【Lumerical系列】硅基电光调制器(3.1)——常用的光学结构
前面两期我们分别介绍了电光调制中常用的物理效应和常见的几种调制结构,其中包括了载流子注入型、载流子耗尽型以及载流子积累型在内的三中常...
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
1847
一文搞懂Ansys Workbench非线性热分析
热分析是工程中经常遇到的分析类型之一,通常用来校验结构在热环境下的特性,可以计算出结构内的温度场分布以及热梯度、热流密度等物理量,从而...
纵横CAE
签名征集中
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哈工大黄陆军顶刊丨激光调控细化晶粒,实现Haynes230在激光粉末床熔化过程的裂纹抑制
点击关注·聚焦3D打印技术👆Haynes230作为一种固溶强化型镍基高温合金,具有优异的高温性能和组织稳定性。使用激光粉末床技术(LPBF)成形Ha...
增材制造博硕联盟
聚焦增材制造科研与工程应用,致...
2537
2.如何将网格文件导入Ansys_Workbench中
点击上方蓝字关注我们将HyperMesh(简称HM)中划分好的网格导入Ansys_Workbench(简称WB)可能有多种方法,这里介绍的是其中的一种(只会这种...
CAE无剑
CAE中学生
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小小问题!大大迷惑!兼谈仿真的学习态度!
学员疑问在半圆面上施加垂直向下1MPa的压力。请问最终合力是多少?1)我们的VIP学员认为,合力应该等于压力乘以半圆面的投影面积,即1*400=40...
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