建模步骤
1.上视基准面草绘同心圆。
2.拉伸高度700 。
3.在前视基准面上草绘图形。
先草绘一个50*50的正方形,然后再向外等距两个
把外面两个正方形剪裁出4个豁口
4.包覆,蚀雕,选蓝色面,深度10 。
5.圆周阵列14个。
6.新建基准轴。
7.线性阵列,基准轴是阵列方向(也可以用临时轴),阵列间距110 ,阵列数量6个。
8.点顶面进入草绘,等距圆。
9.拉伸切除,深度5 。(做这几部是为了加一个顶盖)
10.还是用上一步的圆,拉伸高度5 。合并结果的勾去掉。
11.评估一下,发现阵列这一步耗时太长,可以换一种画法。
12.回到第二步,拉伸高度25 。
13.在顶端草绘,转换实体引用圆边线,拉伸110 ,不合并结果。
14.包覆。
15.圆周阵列。
16.线性阵列实体(上一种画法是阵列的特征),间距110 ,阵列6个。
17.加上顶盖,在评估一下,用时大大减短。(两种���法的思路是一样的,不同的是上一个用的阵列特征,这个是阵列实体,可电脑的运算时间却减少了。)