人类最顶尖的设备，EUV光刻机，价值超过27亿，它到底有多复杂？

人类最顶尖的设备，EUV光刻机，价值超过27亿，它到底有多复杂？

极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography)，常称作EUV光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的紫外线。极紫外线就是指需要通过通电激发紫外线管的K极然后放射出紫外线。

8月22日消息，据外媒报道，台积电2020年5月份宣布投资120亿美元在美国亚利桑那州建设的首座晶圆厂，已开始安装首台EUV光刻机。不过，外媒在报道中也提到，台积电亚利桑那州的工厂，目前仍需要大量的工人安装精密的设备，还需要2000名员工。台积电是在2020年的5月15日，宣布在亚利桑那州建设晶圆厂的。计划2021年开始建设，目标是2024年投产，当时是计划建成之后采用5nm制程工艺为相关的客户代工晶圆，月产能20000片晶圆，预计2021年-2029年投资120亿美元。而在去年的12月6日，台积电宣布亚利桑那州工厂将升级到4nm制程工艺，并开始建设第二座晶圆厂，建成之后采用3nm制程工艺为相关的客户代工晶圆，两座晶圆厂的投资将接近400亿美元。

EUV光刻机是5nm、4nm、3nm等先进制程工艺必不可少的设备，对晶圆代工至关重要，当前仅阿斯麦能制造，台积电也已从阿斯麦采购了大量的EUV光刻机，未来还需要大量采购，用于3nm、2nm等制程工艺的代工。

近年来，随着全球信息化的加速发展和人们对高性能芯片的不断需求，全球半导体行业的竞争日益白热化。作为半导体生产的关键设备之一，光刻机直接决定了芯片制造的精度和工艺水平。因此，光刻机一直是国际科技巨头争相角逐的领域之一。而在这一领域，中国自主研发的光刻机近期取得了重大突破。

据悉，中国光刻机已经拥有生产7nm芯片的核心技术，并且开始进行小批量试生产，这也就代表着中国已经具备自主生产先进芯片的能力了。这不仅是中国半导体产业发展的重大突破，也是中国光刻机产业从追赶到超越的里程碑式事件。

来源：锂电那些事