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SYNOPSYS 光学设计软件课程二: 消色差透镜

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课程二:消色差透镜

       
     

现在我们将添加第二个透镜元件并尝试控制单透镜的色差。

    RLE    ID SINGLET33        FNAME 'L1L1.RLE'        MERIT    0.625687E-07        LOG        33        WAVL .6562700 .5875600 .4861300        WT1 1.00000.001000 1.00000        APS                1        UNITS MM        OBB  0.000000  5.00000  12.70000  0.00000  0.00000  0.00000    12.70000        0  AIR        1  RAD  100.0000000000000      TH       5.00000000        1  N1 1.51431710  N2 1.51679451 N3   1.52237021        1  CTE   0.710000E-05        1  GTB S  'N-BK7'        2  RAD   -100.0000000000000   TH       95.91906767 AIR        2  TH    95.91906767        2  YMT       0.00000000        3  CV    0.0000000000000   TH       0.00000000 AIR    END

    首先,我们通过单击 PAD工具栏上的 Checkpoint 按钮来创建检查点  。在开始改变透镜之前保存检查点始终是个好习惯。利用这样的操作,如果你想返回之前的过程,您可以使用 按钮立即返回。(您也可以按 F3键回到之前的版本)现在单击 WorkSheet 按钮。单击表面1上的图形,然后单击表面2查看所选表面的 RLE 数据如何显示在编辑窗格中。

    现在我们添加第二个镜片。单击窗口顶部附近工具栏上的按钮  。然后在单透镜背后的 PAD 显示屏上单击透镜绘图。第二个镜片出现了。

    该程序已从平面2中删除了 YMT 求解,并在平面3(3 PIN 1)上添加了折射率拾取。单击表面3,然后在编辑窗格中输入3 GLM 1.6 44。然后单击“更新”按钮。

    我们将改变玻璃类型以便校正色差,我们不希望表面 3 总是从表面1中拾取折射率值。所以我们为它分配一个它自己的玻璃模型。现在在编辑窗格中输入

           4 UMC -.125 YMT

    然后再次单击“更新” 现在透镜的曲率求解为 4,得到 F /4.0,由于 YMT 求解,表面5处于近轴焦点。创建一个新的检查点并关闭 WS。

    您可以在帮助文件中阅读这些命令的含义。例如,如果您在 CW 中输入

    您将了解自动边缘控制监视器。现在只需在编辑器窗口中选择字符 GSR,然后查看屏幕底部附近的托盘。

    然后进行优化部分:

    步骤1:

    步骤2:

    步骤3:

    在 Optimization 对话框右侧,会显示自动生成的优化宏代码。

    同时,若点击创建一个宏按钮,可将其保存到磁盘中。

    现在单击编辑器上的“运行”按钮,观察显示的图片如何改变。

    图像看起来好多了,但透镜太厚了!这是因为程序将尽其所能降低评价函数的值,这只是 AANT 文件中项目的平方和。有时它会做出你不想要的结果(您可能并未控制这个条件)。但它只是在做它自己的工作。AANT 文件包括一个 ACC 显示器,用于防止透镜过厚,但默认限制为 1 英寸或  25.4毫米。现在编辑 AANT 文件,将该监视器更改为 ACC 4 1,然后再次运行,给出控制镜片厚度小于4 mm 的目标。结果看起来好多了!

    然后再次点击步骤 3中的立即优化按钮。

    在优化窗口右侧,会显示自动生成的优化宏代码。

    优化后的镜头如下:

    如何选择透镜的玻璃材料?在 CW 中输入 MGT(菜单,玻璃库),选择 Ohara 目录,然后单击“确定”。表面 1 在 APL 部分已分配了玻璃模型,表面3在 PBH 部分中,如下面的玻璃库所示。在下一课中,我们将设计一款具有更好色差校正的3片式的复消色差透镜。但首先,让我们保存现在的这个透镜。

    这将保存透镜数据的 RLE 文件,名称为 L2L1.RLE,便于您以后可以再次打开它。
    您还可以使用命令 STORE 4将透镜文件存储在透镜库位置4。
    命令窗口输入 PLB 将列出库的内容:
       

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    来源:武汉墨光
    ACT二次开发半导体光学UMAVL材料SYNOPSYSASAP光学仪器控制曲面
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    首次发布时间:2022-11-12
    最近编辑:1年前
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