2002至2022，我国光刻机攻关20年，现在怎么样了？
近日有新闻报道，富士康投资的青岛新核芯科技首座晶圆级封测厂正式投产，将引入上海微电子的46台28nm光刻机，但据半导体资深行业人士介绍，此次引进的并非28nm芯片光刻机，而是封装光刻机。
其实在光刻机领域中是有两种光刻机的存在，他们的作用不同，一种是用于生产晶圆，也就是制造芯片，俗称芯片光刻机。另一种则是在生产完成后的封装，我们称之为封装光刻机。当然，需要封装的只有晶圆级的先进封装才会用到，相较技术角度比较来说，封装光刻机比芯片光刻机要低很多，而这次富士康引进的我国光刻机是封装光刻机。
封装光刻机我国上海微电子很早就已研制出来了，而且已经实现了量产供货。在国内封装光刻机市场占有率高达80%。而且上海微电子的封装光刻机还出口海外市场，在全球市场的占有率高达40%。
2002年，光刻机就被列入国家863重大科技攻关计划，我国光刻机行业经过将近20年的攻关，光刻机的集成技术已经完成从0到1，取得了许多重大的突破。
国产90nm光刻机早已商用，DUV浸润式光刻机的主要技术也都攻克了，光源、镜头、双工件台都有了。上海微电子正在攻关的28nm的DUV光刻也有望即将交付，同时上海微电子还在进行14nm光刻机的研制与调试。而最先进的EUV光刻机(7nm以下)还没有开始整机立项研发，实现仍需要一段时间，但相关研究已经开展。
2021年我国光刻机研发进展
光刻机（上海微电子）：自主研发600系列90nm光刻机、将交付28nm国产浸入式光刻机;
双工件台（华卓精科）：双台系列主要应用于65nm及以下节点的ArF干式、侵没式步进扫描光刻机等;
准激光光源：
科益虹源：248nm准分子激光器、干式193nm准分子激光器、侵没式193nm准分子激光器;
福晶科技：KBBF晶体(用于激光设备的上游关键零部件);
中科院：40瓦干式准激光光源;
光学镜头系统：
长春国科精密：90nmEUV镜头、高端光刻机曝光光学系统、日盲紫外探测模组、高端光学检测产品;
长春光机所：32nmEUV镜头;
国望光学：90nm节点ArF光刻机曝光光学系统、110nm节点KrF光刻机曝光光学系统;
中科科仪：直线式劳埃透镜镀膜装置、纳米聚焦镜镀膜装置;
侵液系统（启尔机电）：光刻机侵液系统;
检测系统（东方晶源微电子)：光刻机高速高精度的检测系统。
中国近十年来在芯片设计方面已取得了巨大的进步，目前阻碍中国芯片产业发展的关键就是芯片制造技术，上海微电子的光刻机技术取得大突破有助于确保中国芯片制造产能的扩张，同时也会有助于降低成本。
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