本文摘要(由AI生成):
本文介绍了一个详细的CFD模拟过程,包括重力设置、能量方程、多组分模型、物质材料创建与编辑、边界条件设定、初始条件以及计算求解等步骤。特别地,文中选择了arsenic-trihydride、hydrogen、methylradical和trimethyl-gallium等物质,并创建了新的物质和混合物。边界条件中详细设定了不同边界的温度、物质浓度以及运动状态等参数。最后,通过初始化设置和运行计算,获得了模拟结果,并在CFD-Post中进行了后处理,展示了物质浓度场。
本教程演示了表面化学反应的模拟过程。
(1)在Windows系统下执行“开始”→“所有程序”→ANSYS 2020→Fluid Dynamics→Fluent 2020命令,启动Fluent 2020。
(2)单击主菜单中File→Read→Mesh命令,导入.msh网格文件。
(1)单击命令结构树中General按钮,弹出General(总体模型设定)面板,在Solver中Time选择Steady,进行稳态计算,勾选Gravity,在Z中填入9.81m/s2。
在模型设定面板Models中双击Species按钮,弹出Species Model对话框,选择Species Transport。
在Reactions中勾选Volumetric,Wall Surface。
(1)单击主菜单中Setting Up Physics→Materials→Create/Edit,弹出Create/Edit Materials(材料)对话框。单击Fluent Database按钮弹出Fluent Database Materials对话框,选择物质arsenic-trihydride (ash3),hydrogen (h2),methylradical(ch3)和 trimethyl-gallium (game3),单击Copy按钮确认。
(2)利用物质air,创建新物质Ga_s,As_s,Ga和As。这里只改名称,先不修改属性。
(3)设置混合物名称为gaas_deposition。在属性中,单击Mixture Species旁的Edit按钮,设置混合物组分。
(4)单击Mixture Species旁的Edit按钮,设置化学反应。这里设置两个化学反应。
相关参数设置如下表所示。
(5)单击Mechanis m旁的Edit按钮,设置化学反应。这里设置反应机理。
(6)设置混合物热传导率和粘性。
(7)设置混合物中物质的物性参数。
(1)单击主菜单中Physics→Zones→Boundaries按钮启动的边界条件面板。
(2)在边界条件面板中,设置Velocity Magnitude为0.02189。
在Thermal选项卡中,Temperature设置为293。
在Species选项卡中,ash3设置为0.4,game3设置为0.15。
(3)设置outlet。在Thermal选项卡中,Temperature设置为400。
在Species选项卡中,ash3设置为0.32,game3设置为0.018,ch3设置为0.06。
(4)设置wall-1。在Thermal选项卡中,Temperature设置为473。
(5)设置wall-2。在Thermal选项卡中,Temperature设置为343。
(6)设置wall-4。在Wall Motion中选择Moving Wall,Motion选择Rotational,Speed设置为80。
在Thermal选项卡中,Temperature设置为1023。
在Species选项卡中,勾选Reaction。
(7)设置wall-5。在Wall Motion中选择Moving Wall,Motion选择Rotational,Speed设置为80。
在Thermal选项卡中,Temperature设置为720。
(8)设置wall-6。在Thermal选项卡中,Temperature设置为303。
(9)在Operating Conditions对话框中,勾选Specified Operating Density。
单击主菜单中Solving→Initialization按钮,弹出Solution Initialization(初始化设置)面板。
Initialization Methods中选择Hybrid Initialization,单击Initialize按钮进行初始化。
单击主菜单中Solving→Run Calculation按钮,弹出Run Calculation(运行计算)面板。
在Number of Iterations中输入1000,单击Calculate开始计算。
(1)双击A6栏Results项,进入CFD-Post界面。
(2)显示物质浓度场。