本文原刊登于Ansys.com:《Gate Resistance in IC Design Flow》
作者:Maxim Ershov | Ansys高级研发总监
本文深入探讨了MOSFET栅极电阻在先进半导体节点(16nm及更小)中的重要性和复杂性。栅极电阻对电路的开关速度、延迟、最高振荡频率等关键特性有显著影响,但由于寄生电阻、电容和电感等因素的存在,其精确测量和分析面临挑战。文章详细介绍了寄生提取工具(如Ansys ParagonX)在分析栅极电阻中的应用,这些工具通过可视化布局后网表的RC网络连接,帮助工程师识别栅极电阻的主要来源,并优化版图设计。同时,文章还讨论了FinFET技术中栅极电阻的特点,特别是垂直栅极电阻对设计的影响,指出在先进技术中,栅极电阻与栅极宽度的关系变得更加复杂,设计人员需要选择最佳的栅极宽度以平衡性能。
随着技术节点不断缩小,栅极电阻和互连电阻显著增加,这对电路设计提出了更高要求。文章强调了寄生提取软件在先进节点设计中的重要性,呼吁IC设计人员和版图工程师深入了解栅极电阻的特性,利用专业工具优化设计,以应对日益复杂的半导体技术挑战。