随着封装尺寸的不断增大,翘曲问题也越来越引起业界的关注。过大的封装翘曲可引起一系列问题,如虚焊、桥接等上板焊接质量问题,也可能导致封装可靠性降低,甚至underfill crack、Die crack、ELK crack等断裂问题的发生。一旦发生以上问题,将造成较大的经济和时间损失。因此,在封装设计前期能够较为准确的预测封装翘曲,显得至关重要。那么,有什么好的办法吗?今天我们就从有限元仿真的角度,聊一聊如何做好做准封装翘曲仿真。
影响封装翘曲的原因有很多,如来料翘曲、封装材料参数、基板布线、加工工艺、封装结构等等,是一个多因素影响的复杂过程,我们对以上影响因素进行注意讨论。
来料翘曲是封装翘曲的一个关键影响因素,以FCBGA为例,尤其是lid来料和基板来料翘曲。来料翘曲的形貌和数值都会对最终的封装翘曲造成影响。以25mm封装为例,lid来料通常为笑脸,即lid顶部向下凹陷,这与加工时的工艺有很大关系,翘曲值通常在50um以内。翘曲值与翘曲形貌当然也与厂家的管控标准和能力有关;25mm封装基板的来料翘曲通常在40um以内,大部分呈现出笑脸的形貌,基板的来料翘曲也和基板的加工工艺有很大关系,通常基板厂家能够控制基板翘曲值维持在一个正负范围内,但不能控制基板翘曲形貌。由于来料存在翘曲,封装成型后的翘曲必然受到来料翘曲的影响,那么在仿真时如果能够考虑来料翘曲,那么必然能够更好的预测封装翘曲。
在ANSYS Mechanical软件中,能够通过External Data功能,将结构的初始应力导入到模型当中,构建模型的初始翘曲,再结合生死单元功能,将初始翘曲与其他结构结合在一起,即可实现考虑初始翘曲的仿真分析。具体如何使用External Data功能构建模型初始翘曲,可参考此公众 号之前的文章,链接如下:
如何利用ANSYS Workbench构建模型初始变形?一文搞定
一个完整封装中包含多种材料,同样以FCBGA封装为例,由有机基板、硅、underfill、solder、TIM、ad胶、铜lid等多种不同材料组成,基板又包含了Core、ABF、SR等有机材料的叠层,在叠层中还包含铜线路。不同材料的具有不同的CTE参数,结构间CTE的不匹配是造成封装翘曲的根本原因。在封装翘曲仿真中,准确的材料参数是提高仿真精度的关键。
在常规的仿真中,通常使用厂家提供的材料Datasheet中的参数作为输入,但这远远不够。Datasheet中的参数可能存在数据缺失或数据不全的问题。封装生产过程需要有较大的温度跨度,如室温~260℃,在此温度范围内,大多数有机材料都会经历玻璃化转变,在玻璃化转变温度(Tg)前后,材料性能会有较大区别。厂家提供的Datasheet中往往只包括Tg之前的参数,Tg之后的参数缺失,因此不能反映材料的真实性能;另外Datasheet中的材料参数不完整,如ABF材料的存储模量是随温度变化的,并且不是线性变化,Datasheet中最多能够提供起始温度和终止温度两个温度点的参数,同样不能反映材料的真实性能。
要想获得材料的真实性能,材料参数测试是必要的。对于常规的参数如CTE、Tg、存储模量,可使用TMA、DMA进行测试,可获得材料随温度变化过程中的参数变化,能够最大程度反映材料的真实性能,相关测试方法可参考IPC-TM-650标准。
除了常规的线性材料参数以外,材料的弹塑性性能以及粘弹性性能同样影响翘曲仿真精度,材料如铜的弹塑性性能可使用万能材料试验机进行测试,获得力位移曲线,得到屈服强度、抗拉强度等塑性参数;对于有机材料如ABF、Core材,主要受粘弹性影响,粘弹性的一个显著特征就是温度和频率相关,在不同的温度和频率下会表现出不同的特性,同时也表现出时间的相关性,随着时间的推移,材料内部的应力会逐渐发生改变。材料的粘弹性参数可以通过DMA进行测试,并进行公式拟合,最终能够输入到仿真软件当中进行翘曲仿真。下图为TA仪器的TMA(左)和DMA仪器(右)。
基板布线即基板内部铜的布置形式,涉及到铜分布及覆铜率,不同的分布和覆铜率会对翘曲产生不同的影响。常规的仿真方法一种是将走线层全部简化为铜材料,使用铜的参数进行仿真,但这种方法忽略了走线层的介质材料,简化程度较大;另一种方式是使用材料体积等效的方法,将铜和介质材料按照体积等效的方法,计算出一个等效的参数,此种方法虽方便快捷,且能在一定程度上考虑覆铜率的影响,但认为铜是均匀分布,忽略了走线的具体结构。
目前一个较好的方法是使用ANSYS的Trace mapping功能,将铜走线映射到基板的对应层当中,能够在最大程度上考虑走线的影响。使用此种方法时,网格划分越精细,映射越接近实际结构,因此需要对网格进行细化,一定程度上增加了网格数量。另外作者发现Trace mapping功能不能和生死单元结合使用,会出现计算不收敛的问题,如有其他读者遇到类似情况,欢迎讨论。Trace mapping达到的效果如下所示,使用方法请参考公众 号以往文章,链接如下:
封装翘曲和加工工艺强相关,在完整的封装加工流程中,前前后后会经历多大站点,每个站点的载荷各不相同,主要为温度和压力,且材料性能和温度相关,因此在不同温度下,封装的翘曲会有所不同。如果把封装前后经历的所有站点全部囊括到仿真中并不现实,因此需要进行简化,将主要的工艺站点考虑进去,如FC、Underfill Cure、Lid Attach和Solder Ball Mount。
FC站点将Die焊接到基板上,会经历一次reflow,温度最高可达到260℃;
Underfill Cure站点为填充underfill并进行固化,填充温度通常为165℃或150℃;
Lid Attach站点为贴lid的过程,此过程涉及TIM胶的固化,Ad胶的固化,还涉及到贴盖压力,是一个相对复杂的过程,贴盖压力会根据不同TIM类型、不同封装厂经验有所区别,固化温度通常为150℃或125℃;
Solder Ball Mount为植球过程,将solderball植到基板表面,此过程会再经历一次reflow,温度最高可达到260℃。
封装加工工艺是影响封装翘曲的一个关键因素,仿真时应与工艺工程师充分沟通,获取到准确的工艺参数作为仿真输入条件。
在仿真时虽然应尽可能考虑工艺条件,但目前有些工艺条件还是无法完全考虑,如升降温速率、真空压力、频繁的升温降温以及真空平台吸附产生的应力累计、释放等,还需更进一步的探索。
仿真中应按照对象实际结构建模,这是仿真的基本原则之一。但建模时采用的结构尺寸通常为结构的设计尺寸,和实际加工尺寸存在一定的偏差,如lid加工尺寸偏差控制在±10%,ABF厚度偏差甚至达到±20%,Ad胶和TIM厚度同样存在类似问题。因此,在项目中应注意积累封装各部分尺寸公差,可以通过厂家提供的COC报告中获取,形成经验,逐渐应用到后续项目。
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来源:芯片封装设计与制造