首页/文章/ 详情

LS-DYNA中Mortar接触介绍

17天前浏览1916
   

01.摘要 


本文介绍了隐式计算中常用的Mortar接触,主要内容有Mortar接触的适用范围、如何定义Mortar接触、主从(段)设置、接触属性调整(主要探究穿透量和接触刚度的关系)、输出信息控制(主要是穿透信息)、初始穿透的处理和阻尼因素等几部分。

02.基础 


通常可以在Automatic single surface, Automatic surface to surface 或Forming surface to surface关键字后面赋上后缀_Mortar就可以激活Mortar接触。Mortar接触也可以在tied接触和tiebreak接触里使用。所有Mortar接触均是段对段接触且基于罚函数法,同时tied接触和tiebreak接触总是偏移的,即壳体上的tie接触不是在中面而是在外表面上。对于自动接触,线接触总是激活flat edge选项。因此,适用于其他接触的一些更先进的特征功能可能不适用于Mortar接触,例如摩擦表格和正交各向异性摩擦,但另一方面,它具有隐式计算中 特别关注的特征,而这些特征其他接触则不适用。Smp和mpp都支持Mortar接触 ,但选项MPP不适用,每个循环都进行bucket排序,且smp忽略flag选项。Mortar接触不适用SOFT flag选项,总结说来,Mortar接触是一种专门用于隐式分析的接触算法。

03.一般建议 


对于forming接触,刚体工具必须划分网格,以确保其网格法向朝着坯料,并且来自上下方的接触必须分为两个或多个面,因为对于给定的接触面,接触只能从坯料的一侧发生。对于forming接触,主侧上的刚性壳体没有接触厚度。Automatic自动接触则不同,它对网格没有限制,甚至刚性壳体也有接触厚度。对于所有的Mortar接触,建议主从侧的定义使用基于零件或零件集,但不是强制性的。如果接触的主从侧具有不同的刚度,则将刚度小的一侧作为从,以获得尽可能好的隐式收敛行为。上述主从设置在single接触中自动进行。Mortar single接触最近即便对于隐式分析来说也相当缓慢,但软件已经对效率进行了改进,使其在最新版本的LS-DYNA中更加实用。

04.接触属性  


Mortar接触中的接触压力是穿透量的函数,计算公式如下:

其中,α=刚度放缩因子(SFS*SLSFAC)

Ks=从段的刚度模量

d=穿透量或穿透距离

ε=0.03,

dc=从段特征长度

同时,

壳体的特征长度为壳体厚度,实体的特征长度是接触界面从侧的最小边,而dmax是最大穿透量,由主从侧平均特征长度的95%计算得出。对于实体,如果某些单元较小,则特征长度的定义可能会带来虚假的大刚度值,此时建议为实体接触从动侧手动设置SST为某个适当的特征长度。不幸的是,如果壳体和实体存在于同一接触中,将影响壳体接触厚度,因此目前建议将壳体和实体分离为不同的接触界面,并仅为实体接触设置SST。

从上面的公式可以推导出,穿透量达到最大值的一半之前,接触刚度是穿透量的抛物线形式。IGAP=1时,对于更大的穿透量,仍将保持抛物线形式,但用户可以增加IGAP,这意味着穿透量较大时接触将变硬,实际上,在以下数学表达式的约束条件下下,它将变为立方形式(见上图,其绘制了接触应力与穿透量的函数关系,相对于最大穿透量的两倍)。


增加IGAP的目的是防止穿透量超过最大允许值,因为如果穿透量大于最大允许值时达到收敛,则该接触将在后续步骤中失效,计算过程失败。这种较大的穿透可能会导致线性搜索的不连续性和其他令人失望的现象,参见*CONTROL_IMPLICIT_SOLUTION上NLPRINT=3的使用。用户当然可以通过增加SFS来缩放刚度,但这也会缩放小穿透量的刚度,并可能对收敛产生负面影响。

05.输出  


正如一般的隐式分析一样,当收敛开始变困难时,可以查看信息,考虑到前一节中所说的接触释放,了解穿透是否太大,从而成为潜在的计算风险将是有意义的事情。首先,初始穿透量总是在消息文件中报告,包括最大穿透量以及如何处理的初始穿透量。后者取决于IGNORE的值,下面将对此进行说明。此外,在关键字*CONTROL_OUTPUT上设置MINFO=1,LS-DYNA将输出最大穿透量绝对值以及每次平衡后的最大穿透量(百分比)。如果相对最大穿透量达到99%以上,则会输出一条警告消息,因为该接触即将释放。理想情况下,该百分比值应保持在约90%以下,以具有一定的容差。有三种方法可以减少最大相对穿透量:(1)增加IGAP;(2)增加实体的SST;(3)增加SFS。注意,通过增加实体的SST,接触刚度将自动降低,同时应将SFS增加SST增量的平方。也就是说,如果SST增加1倍,则SFS应增加4倍,如果SST增大3倍,则SFS应增加9倍,依此类推。在这种情况下,即使IGAP最初大于1,也可能需要增大一些数值。

06.初始穿透 


如上所述,初始穿透量总是在消息文件中报告,包括最大穿透量和如何处理初始穿透量。IGNORE控制后者,选项为:
  • IGNORE<0,穿透量与对应的绝对值相同,但完全忽略属于同一零件的段接触

  • IGNORE=0,初始穿透量将产生初始接触应力,即从动接触面未被修改

  • IGNORE=1,跟踪初始穿透量,即从接触面被转换到初始穿透量的水平,随后在分离时跟随主接触面,直到达到未修改的水平

  • IGNORE=2,忽略初始穿透量,即从接触表面被转换到初始穿透量的水平,可选的,初始接触应力由MPAR1控制

  • IGNORE=3,随着时间的推移,初始穿透量将被移除,即从接触表面被转换到初始穿透量的水平,并在MPAR1确定的时间内被推回到其未修改的水平

  • IGNORE=4 与IGNORE=3相同,但可以通过设置MPAR2参数允许大的穿透量,至少可以达到最大初始穿透量

IGNORE的使用取决于计算的问题,如果不存在初始穿透量,则根本不需要使用此参数。如果穿透量相对于最大允许值较小,则IGNORE=1或IGNORE=2似乎是合适的选择。对于IGNORE=2,用户可以设定一个初始接触应力,该应力要足够小,而不会对物理产生明显影响(即偏离实际太多,编者注),但又要足够大,以消除刚体模式,从而消除刚度矩阵中的奇异点。这样做的目的是通过使用SFST推动接触面并应用IGNORE=2选项来约束最初闭合但未接触的松散零件。至少有利于调试具有许多奇异刚体模式的问题。IGNORE=3是Mortar干涉的对应项,例如,如果希望在结构中安装橡胶构件,则使用该项。使用此选项,从模拟开始到MPAR1指定的时间,接触表面随着时间线性恢复。IGNORE=3的缺点是初始穿透必须小于接触特征长度的一半,否则它们初始状态将无法被检测到。因此,在初始穿透可以是任意大小的情况下引入了IGNORE=4,但它要求用户提供关于接触界面穿透水平的粗略信息。这是在MPAR2中设置的,MPAR2必须大于最大穿透力,否则将发生错误终止。IGNORE=4目前仅适用于实体单元。当通过对具有多个零件的模型进行模拟来消除穿透时,某些零件可能包含导致虚假自接触的薄构件。仅通过调整接触参数可能很难解决这些问题,但幸运的是,大多数情况下可以完全忽略零件内的自接触,因为在这种情况下,这些接触通常不感兴趣。IGNORE<0选项是为此目的使用的,也是解决此问题的一种方法。


07.阻尼 


阻尼可以使用VDC激活。隐式计算中接触阻尼的问题是,时间步长通常太大,而无法处理接触时间以获得所需阻尼效果。通常情况下使用阻尼可能使问题会变得更糟,因此不建议使用接触阻尼。

   


来源:摩尔芯创
LS-DYNA半导体光学汽车电力电子控制
著作权归作者所有,欢迎分享,未经许可,不得转载
首次发布时间:2024-11-09
最近编辑:17天前
摩尔芯创
光学仿真、光学培训、硅基光电子
获赞 6粉丝 5文章 36课程 0
点赞
收藏
作者推荐

【Lumerical系列】Lumerical关于CMOS图像传感器的角度响应(2D)仿真

本文摘要:(由ai生成)本文介绍了一个2D仿真示例,用于计算图像传感器阵列的角响应(angular response),即器件光学效率与入射角的关系。仿真设置包括微透镜阵列、滤光片、金属布线、AR涂层和硅衬底等组件,使用FDTD Solutions进行模拟。通过改变入射角,测量耗尽区域吸收的功率分数,分析偏振光和非偏振光的效率。结果表明,器件对输入光束的偏振敏感,且绿色像素的透射率高于红色像素。此 2D 示例演示如何计算图像传感器阵列的angular response。angular response度量了器件的光学效率与入射角的关系。该结果可以与实验设置进行比较,也可用于计算均匀照明下的光学效率,如Simulation methodology中所述。下图显示了仿真的实验设置。激光束以一定角度照亮图像传感器。我们测量耗尽区域吸收的功率分数与入射角的函数关系。每个角度都需要进行两次仿真(TE 和 TM),以获得偏振光和非偏振光的效率。(相关链接为:https://support.lumerical.com/hc/en-us/articles/360042851793)图1实验装置示意图仿真设置CMOS_angle2D.fsp的屏幕截图如下所示。从上到下,主要 Components是微透镜阵列、红/绿滤光片、金属布线和过孔、抗反射 (AR) 涂层和硅衬底。每个像素的宽度为2mm,使模拟区域为4mm宽。仿真区域在X方向上设置了Bloch边界条件,在Y方向上设置了PML吸收边界条件。平面波源从结构的顶部入射。光源波长为550nm(绿色)。我们预计通过绿色像素的透射率高,通过红色像素的透射率低。图2CMOS image sensor结构示意图参数化结构&quot;image sensor&quot; 对象是一个参数化的结构组,每次更改其中一个参数时,它都会重建整个图像传感器。使用脚本以这种方式对复杂结构进行参数化对于reproducibility至关重要,并且使之后的参数扫描和优化易于在 GUI 中设置。运行和结果可以快速运行仿真,以确认结构绘制正确,并且可以获得电场分布。下图显示了电场强度|E|2,来自于名为 full_fields的监视器,以及折射率分布,来自于名为index的监视器。请注意, index图上的 colorbar已重新缩放为介于 1.2 和 2 之间。这样可以更好地观察滤色片和微透镜。默认的colorbar设置覆盖的范围非常大,因为用于金属的 PEC 材料的折射率约为 700。图3 光场分布图图4 折射率分布图角响应参数扫描对象 &quot;sweep angle&quot; 可用于执行参数扫描。它是一个嵌套扫描,用于计算unpolarized light的光学效率。它在 -36 度和 36 度之间执行 37 个角度的扫描,每个角度有 2 个偏振,总共 72 次模拟。每次模拟只需几秒钟。通过在Si 表面对Poynting 矢量进行积分来测量通过器件进入到Si衬底中的透射功率。每个像素的光学效率是通过在红色和绿色像素的指定区域上对Poynting矢量进行积分来计算的。下图中的此区域是每个滤波器下方中心的 1mm 宽区域。对于红色像素,这意味着我们对 -1.5 到 -0.5mm 的 Poynting 向量进行积分。对于绿色,我们从 0.5 毫米积分到 1.5 毫米。这些计算由称为 &quot;surface analysis&quot;的分析组完成。运行扫描后,脚本文件 CMOS_angle2D_analysis.lsf 将绘制如下所示的结果。图5 光学效率随入射角度的变化毫不奇怪,效率在接近正入射时最高。另外,请注意,该器件对输入光束的偏振有些敏感,P偏振光的光学效率始终小于S偏振光。图6 光学效率随像素和入射角度的变化绿色像素的透射率要高得多,因为我们正在研究的是 550nm(绿色)。同样有趣的是,在陡峭的角度下,红色像素的 spectral crosstalk也是最高的。&#39;Si surface&#39;数据线显示了传输到Si内的总功率。它是进入到绿色和红色像素的功率之和,加上耗尽区域之间吸收的功率。所有这些结果都是针对非偏振光的。最后,请注意理论最大线(理想)不是平坦的。cos(theta)依赖性来自这样一个事实,即随着θ的增加,激光器入射到图像传感器表面的单位面积功率将减少。该曲线被标记为&quot;Ideal&quot;,表示理想的angular response,但它没有理想的最大效率,即 50%。谱串扰Spectral crosstalk 是在green illumination下(反之亦然),红色或蓝色像素的active区域吸收的光。Angular response提供了一种spectral crosstalk的度量。这些仿真表明,在30度入射角下,对于550nm(绿光)光,向红色active区域的功率传输约为3%。高级角响应上述结果是根据Si表面的Poynting向量计算得出的。没有考虑Si层内吸收的空间分布。例如,我们没有考虑光在被吸收之前进入硅的距离。相同的参数扫描收集数据,我们将在Si 内部特定区域上对每单位体积loss进行积分。这使我们能够进行更准确的角度响应计算,因为我们可以计算耗尽区域(任意形状)内 Si 吸收的功率分数。下图显示了其中一个仿真(第 19 次)中Si 内的每单位体积loss。由于红色滤光片阻挡了光线(x&lt;0),因此我们在红色像素耗尽区域没有看到太大 loss。请注意,颜色条修改为最大 4e11 W/m^2。图7 吸收分布图耗尽区的吸收是通过在耗尽区上对每单位体积损耗进行积分并归一化到入射功率来计算的。在这个案例中,我们假设每个耗尽区为1x1mm2,如下所示。耗尽区域通常不需要是矩形的。图8 耗尽区示意图通过在耗尽区域面积上对单位体积损耗进行积分,我们得到了更准确的角度响应曲线。为了便于比较,我们将其缩放到和上面在Si表面对Poynting vector进行积分时相同的比例,在这里,我们看到形状非常相似,但光学效率降低了。这是因为现在我们只收集硅中第一微米深度内被吸收的光。此外,由于模拟边界位于y=-1.2mm处,因此在full Si volume中吸收的功率会降低,这意味着一些光穿透模拟区域,并被仿真区底部的PML吸收。图9 光学效率图参考文献:1. F. Hirigoyen, A. Crocherie, J. M. Vaillant, and Y. Cazaux, “FDTD-based optical simulations methodology for CMOS image sensors pixels architecture and process optimization” Proc. SPIE 6816, 681609 (2008).2. Crocherie et al., “Three-dimensional broadband FDTD optical simulations of CMOS image sensor”, Optical Design and Engineering III, Proc. of SPIE, 7100, 71002J (2008).来源:摩尔芯创

有附件
未登录
还没有评论
课程
培训
服务
行家
VIP会员 学习 福利任务 兑换礼品
下载APP
联系我们
帮助与反馈