基准&基准体系
基准:用于几何公差的参考的理想要素(点、直线或平面)。基准由实际工件上的基准要素所定义。
一个独立基准具有如下几种形式:
基准体系:包含两个或三个带次序的基准,且作为一个坐标系统来约束公差带。
第一基准为独立基准,需要时控制其形状误差(如平面度)
第二基准为独立基准,需要时控制与第一基准的方向(如垂直度或平行度);
可选的第三基准为独立基准,需要时控制第一和第二基准的方向或位置(如垂直度或平行度或位置度)。
在轮廓或者其延长线的基准标注表明,该表面作为某一基准的基础(见图a)。
在外部尺寸线上的基准标注了该导出要素,即以圆柱的轴线或两表面的中心面作为基准的标注(见图b和c)。
公差的基准或基准体系可以以下列方法体现:
单一基准
A和B组成的公共基准
具有一个基准体系:A为第一基准,B为第二基准,C为第三基准
注意:基准体系中的每一个基准都可能是单个基准或公共基准
固定的基准目标标示符
可移动的基准目标符号。表示符上的斜线(并非箭头)表示其移动方向。
图样
解释
实际工件往往根据基准体系中基准的优先权进行定位和定向。