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图纸中的根基—基准&基准体系

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基准&基准体系

基准    


基准:用于几何公差的参考的理想要素(点、直线或平面)。基准由实际工件上的基准要素所定义。

一个独立基准具有如下几种形式

  • 仅一个基准独立使用(单一基准)    
  • 由一系列基准目标组成-指定工件的基准要素(单一基准)    
  • 公共基准-两个或多个无序的基准作为一个单一基准使用    


基准体系    


基准体系:包含两个或三个带次序的基准,且作为一个坐标系统来约束公差带。

  • 第一基准为独立基准,需要时控制其形状误差(如平面度)

  • 第二基准为独立基准,需要时控制与第一基准的方向(如垂直度或平行度);

  • 可选的第三基准为独立基准,需要时控制第一和第二基准的方向或位置(如垂直度或平行度或位置度)。


图纸中的基准标注    

在轮廓或者其延长线的基准标注表明,该表面作为某一基准的基础(见图a)。


在外部尺寸线上的基准标注了该导出要素,即以圆柱的轴线或两表面的中心面作为基准的标注(见图b和c)。


基准和基准体系在ISO 1101和 ISO 5459中定义    

公差的基准或基准体系可以以下列方法体现:

  • 单一基准

  • A和B组成的公共基准


  • 具有一个基准体系:A为第一基准,B为第二基准,C为第三基准

    注意:基准体系中的每一个基准都可能是单个基准或公共基准

  • 固定的基准目标标示符

  • 可移动的基准目标符号。表示符上的斜线(并非箭头)表示其移动方向。


基准体系示例    

  • 图样

  • 解释

实际工件往往根据基准体系中基准的优先权进行定位和定向。


来源:公差通
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首次发布时间:2024-06-28
最近编辑:4月前
公差通
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