参考来源:ISO 5458:2018
SIM的标注应用
图1 SIM的标注应用(同类型公差带)
(参考 ISO 5458:2018)
如图1所示,SIM1所对应的两个孔组要素,参照基准A-B,被同时定位和定向。构成孔组的3个孔因为有“CZ”(组合公差带)修饰,3个公差带要视为一个整体同时要求,相当于孔组内的要素需要同时要求,同时满足规范。SIM2所对应的两个成组要素也是参照基准A-B被同时定位和定向。但SIM1与SIM2所对应的成组要素间,虽然也参照同一基准A-B,但是独立要求而非同时要求(根据ISO 8015的默认原则-独立要求)。
图2a) SIM 的标注应用(不同类型公差带)
(参考ISO 5458:2018)
图2b) 公差带
说明:
a – 基准
b – 圆柱形公差带
c – 两平行面构成的公差带
d - 外部约束(ISO专业术语,通俗的讲就是来自于基准的约束)
e – 内部约束(就是让公差带与公差带之间必须保持某种关系的能力,如平行。)
图3a) CZ-组合公差带
图3b) SIM-同步要求
(参考ISO 5458:2018)
如图3a)所示,用“CZ”来表示被测的三个平面要素的公差带可视为一个整体,需同时满足规范要求。如果要用“SIM”表示这种同步要求,可如图3b)所示标注。此时,因为只有一组被测要素需要同步要求,所以SIM后面的数字可省略。
好多同学还没看到这里就走了,殊不知后面才是划重点的时候。
如果两个平面没有使用SIM约束,那么根据ISO的独立原则,两个面的公差带不需要保持任何相对关系;如果你想要求公差带和公差带之间必须保持绝对的方位关系,就上SIM吧。