1.从事光学设计的工程师;
2.理工科学子。
活动主要针对序列成像设计,帮助学员掌握优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换等知识点
疫情期间,为防止聚集所造成的病毒传染,也为了满足各位小伙伴对于 Zemax 成像设计的学习热情,武汉宇熠特地开展了线上直播培训活动——“ Zemax 成像设计线上培训”。活动主要针对序列成像设计,帮助学员掌握优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换等知识点。
培训大纲
01 OpticStudio 软件功能介绍; 02 材料库、镜头库介绍; 03 如何定义新材料; 04 如何使用镜头库; | 23 柯勒照明综合设计实例; 24 投影系统设计 25 集光系统设计; 26 暗盒系统介绍; |
05 像差理论介绍; 06 Zemax 里像差分析图谱; 07 优化; 08 局部优化 | 27 分析工具应用; 28 寻找最佳非球面 29 曲率套样板; 30 镜头匹配工具; |
09 全局优化; 10 锤形优化; 11 优化函数架构技巧; 12 单透镜优化实例 | 31 Zemax 公差分析功能介绍; 32 加工误差、装配误差; 33 灵敏度分析; 34 反灵敏度分析; |
13 双胶合优化实例; 14 热分析及衍射光学元件的使用; 15 实例设计及分析; 16 MTF | 35 蒙特卡罗分析; 36 公差评价标准; 37 公差操作数; 38 补偿变量的使用; |
17 双高斯镜头设计及优化; 18 像质评价与图像模拟; 19 坐标变换; 20 坐标断点面的使用技巧 | 39 单透镜公差分析; 40 库克镜头公差分析; 41 分析报告查看说明; 42 公差脚本的使用; |
21 序列模式棱镜建模; 22 扫描反射镜设计实例; | 43 镜头出图、CAD 出图; 44 小结及答疑 |