光刻间 (Cleanroom)是指一种高度净化的封闭空间,其内部的空气、温湿度、压力等环境参数受到严格控制,以满足特定的工业生产或科学研究的需求。在半导体制造、液晶显示器生产、生物医药等领域,光刻间是确保产品质量的关键设施之一。特别是对于半导体制造来说,光刻间的作用尤为关键,因为即使是最微小的尘埃粒子也可能导致芯片制造失败。为了达到这样一个高标准的环境,CFD气流组织模拟在光刻间的设计和使用上极为重要。
CFD气流组织模拟能够精准确定气流组织方式,保障光刻间的高洁净度,减少微粒对光刻工艺的干扰;可以预估温湿度分布,优化布局,保证光刻设备和光刻胶所需的温湿度条件,提升光刻质量稳定性;还有助于设计有效通风系统,及时排出有害气体,保障人员健康和设备安全。
一、模拟区间与模拟建构概念说明
二、优化目标与方案设定
结论
来源:中源广科CLABSO